OVPO 工艺与 MCVD 工艺：差异与比较

OVPO 和 MCVD 分别代表外部气相氧化和改性化学气相沉积。

OVPO 和 MCVD 工艺是用于构建和生产光纤的光纤制造工艺。 光纤使用光技术并制成股线来传输数据。

关键精华

1. OVPO（外部气相氧化）工艺是一种通过将烟灰颗粒沉积到基板上来制造光纤的技术。 相比之下，MCVD（改良化学气相沉积）工艺涉及在空心玻璃管内沉积玻璃层。
2. OVPO 工艺比 MCVD 工艺更有效地生产高质量、低损耗的光纤。
3. MCVD 工艺因其与各种光纤类型的兼容性以及易于扩大规模以进行大规模生产而得到更广泛的应用。

OVPO 工艺与 MCVD 工艺

OVPO（外部气相 氧化) 工艺是一种光纤制造方法。 这是一个复杂的过程，但在使用光纤的技术发展中起着重要作用。 这个过程包括四个步骤。 MCVD（改良化学气相沉积）是一种光纤制造工艺。 这个过程的结构很复杂。

OVPO 工艺是最早用于制造光纤的方法之一。 另一方面，在此过程中，横向燃烧器用于加热由金属卤化物蒸气和玻璃材料组成的诱饵棒。

这是一个繁忙且不便的过程。

MCVD 工艺是光纤制造的改进版本。 它使用可以移动到任何一侧的横向燃烧器为金属卤化物蒸气的基管提供热量。

它还涉及气体混合物通过管子并在充分加热后最终排出。

对比表

比较参数	OVPO流程	MCVD工艺
输出	OVPO 工艺使光纤每公里损失约 20 分贝。	MCVD工艺用于生产低损耗渐变折射率光纤。
沉积	OVPO 工艺在纤维外部进行内容物的层沉积。	MCVD 工艺在光纤内部进行层沉积。
化学反应	OVPO法是利用火焰的化学水解反应。	MCVD 工艺使用气相维度反应进行制造。
步骤	OVPO方法有四个基本步骤，即烟灰沉积、其预制件、执行烧结和纤维拉丝。	MCVD 方法非常方便快捷，步骤很小。
影响	用于制造光纤的 OVPO 工艺在初始阶段使用并且是艰难的。	MCVD 工艺是一种改进的方法，具有几个方便的优点。

什么是 OVPO 流程？

OVPO 工艺缩写为外部气相氧化法，是四种常用的光纤制造方法之一。 光纤就是通过这个过程制造的。

然而，这是一个严格而艰难的过程，但却是一种非常流行的方法，在通过光纤开发技术的初始阶段具有很大的影响。

最初实施该过程时，发现 OVPO 方法在光纤中每公里的数据丢失小于 20 分贝。

OVPO 过程的基础虽然艰难且非常严格，但简单直接。 它需要二氧化硅化合物的混合物。 这些复合颗粒统称为烟灰。

在这个过程中使用了一个横向火焰燃烧器，可以移动和加热称为曼德尔的诱饵棒。

该棒通过火焰的热量沉积烟灰。 一旦沉积开始，烟灰在陶瓷曼德尔上逐层显着增加。

然后，引入玻璃卤化物蒸气以形成光纤的纤芯和包层。 在大约 1400 摄氏度的温度下，通过移除玻璃棒来制造光纤。

什么是 MCVD 工艺？

MCVD工艺简称为改良化学气相沉积工艺。它被认为是一种更方便的方法。这是因为 MCVD 方法是普通光纤制造工艺的改良版。

MCVD 是制造损耗极低的渐变折射率光纤的更有利工艺。

这个过程有一个更复杂的结构。 它包括一个由玻璃二氧化硅制成的基管和一个横向燃烧器，用于将火焰放在基管的足够区域。

除了二氧化硅化合物的烟灰混合物之外，气体混合物也在存在烟灰颗粒的情况下通过基管。 然后在合适的时间将它们从管中排出。

同样，基管也和饵杆一样具有旋转能力。

引入管中的气体混合物是蒸气卤化物气体的混合物以与烟灰反应。 现在使用氢氧炬将烟灰烧结在玻璃棒上。

当玻璃棒足以制造光纤时，手动停止蒸汽流动和西服沉积，并使用高温与玻璃棒一起制造光纤。

OVPO工艺与MCVD工艺的主要区别

1. OVPO 工艺仅使用卤化玻璃气体来形成 核心 和光纤的包层。 另一方面，MCVD 工艺使用纤芯作为气体卤化物蒸汽，使用包层作为烟灰材料。
2. OVPO 方法不涉及使用氢氧焰在玻璃棒上烧结烟灰。 另一方面，MCVD工艺使用。
3. OVPO 工艺使用烟灰作为二氧化硅。 另一方面，MCVD工艺也可以利用磷或锗材料。
4. OVPO工艺使用1400摄氏度的温度。 另一方面，MCVD 工艺仅使用 250 摄氏度。
5. OVPO法有火焰水解反应。 另一方面，MCVD方法使用气相沉积反应。

参考资料

1. https://allwise.yonsei.ac.kr/pdpl/subdir/equipments/paper/mcvd_01131071.pdf
2. https://ieeexplore.ieee.org/abstract/document/1456096/

最后更新时间：27 年 2023 月 XNUMX 日